集成电路技术发展简史? 1940s -起步阶段-原创性的发明使得集成电路技术成为可能? 1950s -集成电路雏形-集成电路出现? 1960s -改进的产品和技术- MOS, CMOS 和 BiCMOS, Moore's 定律? 1970s -驱动市场的新产品和技术- EPROM, DSP, DRAMs 和微处理器( Microprocessors ), MOS 比例特性( scaling ).? 1980s -先进的技术和产品- EEPROM 和 Flash ? 1990s -持续改进的技术-技术进一步深化? 2000s -千禧年后的新世纪有什么变化?-请继续和我们一同关注. 1940s 起步阶段? 1940 - PN 结( junction ) 虽然早在 183 3年法拉第就已经发现化合物半导体的特性, 187 3年 h使用硒制造出工业整理器和早期的光电器件, 1874 年德国物理学教授 Feidinand Braun 观察到金属丝-硫化铅的整流特性并在其后用作检测二极管。但是直到 20 世纪 40 年代,贝尔实验室( Bell Labs )的 Russel Ohl 才开发了第一个对集成电路来讲具有严格意义上的 PN 结( junction ):当该 PN 结暴露在光源下的时候, PN 结两端产生 的电压。

顺便提一句,那个时代 Bell 实验室在材料研究上具有很强大的力量,正是这个领导力量开创了半导体技术的纪元。? 1945 -三极管( Transistor )发明 1945 年, Bell Labs 建立了一个研究小组探索半导体替代真空管。该小组由 William Shockley 领导,成员包括 John Bardeen 、 Walter Brattain 等人。 1947 年 Bardeen 和 Brattain 成功使用一个电接触型的“可变电阻”- 即今天被称为三极管“ Transistor ”的器件得到放大倍数为 100 的放大电路,稍候还演示了振荡器。 1948 年, Bardeen 和 Brattain 提交了一份专利申请并在 1950 年被授予 Bell Labs - 这就是美国专利 US2,524,035, "Three Electrode Circuit Element Utilizing Semiconductive Materials". 1950s 集成电路雏形- 集成电路出现? 1951 -发明结型三极管( Junction Transistor ) 1951 年, William Shockley 推出了结型晶体管技术,这是一个实用的晶体管技术,从此难以加工的点接触型晶体管让位于结型晶体管,在 20 世纪 50 年代中期,点接触型晶体管基本被替代。

1954 年晶体管已经成为电话系统的必备元件, Bell 实验室在生产晶体管的同时也向其他公司发放生产许可并从中提成( royalty ),在这个时候,晶体管开始进入无线电和助听器领域。 1956 年,由于晶体管发明的重要性, Bardeen 、 Brattain 和 Shockley 被授予诺贝尔奖( Nobel Prize )。? 1952 -单晶硅( Single crystal silicon )制造技技术? 1952 -集成电路( Integrated Circuit - IC )的概念提出 1952 年5月7日,英国的雷达科学家 Geoffrey . Dummer 在华盛顿特区提出了集成电路的概念, 即文章"Solid block [with] layers of insulating materials". 1956 年的尝试以失败结束,但是作为提出 IC 概念的先驱, Dummer 是 IC 史册不可缺的一页。? 1954 -第一个商业化的晶体管 1954 年5月 10 日,德州仪器( TI)发布了第一款商用的晶体管-Grown-Junction Silicon Transistors 。

晶体管通过在硅晶体表面切割一个矩形区域获得,硅晶体通过含杂质的熔化炉生长得到。硅晶体管和锗晶体管相比,具有廉价和高温特性好的优点。? 1954 -氧化、掩膜工艺( Oxide masking ) Bell 实验室开发出氧化( oxidation )、光掩膜( photomasking )、刻蚀( etching )和扩散(diffusion ) 工艺,这些工艺在今天的 IC 制造中仍在使用。? 1954 -第一个晶体管收音机问世工业开发工程师协会( Industrial Development Engineer Associates )设计并生产了世界第一个晶体管收音机- Regency TR-1 ,它使用 4个德州仪